Nanotecnología
Fabricar nanoestructuras mediante impresión de chorro de tinta y autoensamblaje
Un equipo de ingenieros de diversas instituciones ha desarrollado una nueva técnica de fabricación de nanoestructuras que será de utilidad para el sector industrial de los dispositivos de almacenamiento magnético de datos y el de los semiconductores en general.
El nuevo método combina tecnología avanzada de impresión por chorro de tinta, con un enfoque de diseño que pasa por el autoensamblaje de copolímeros de bloque. Estos representan un tipo de material que puede formar espontáneamente estructuras ultrafinas.
El equipo de nueve especialistas de la Universidad de Illinois en Urbana-Champaign, la Universidad de Chicago y la Universidad Hanyang en Seúl, las dos primeras en Estados Unidos y la última en Corea del Sur, pudo incrementar la resolución de fabricación de una intrincada estructura, desde aproximadamente 200 nanómetros hasta unos 15.
La habilidad para fabricar nanoestructuras a partir de polímeros, ADN, proteínas y otros materiales "blandos" tiene el potencial de abrir nuevos campos en la industria electrónica, permitir el desarrollo de nuevos dispositivos para diagnosis médica, y fabricar sensores químicos con algunas ventajas frente a los tradicionales.
El desafío a superar es que muchos de estos materiales son incompatibles con los tipos de técnicas litográficas que se usan tradicionalmente en la industria de los circuitos integrados.
![[Img #17369]](upload/img/periodico/img_17369.jpg)
Esta imagen obtenida mediante un microscopio de fuerza atómica muestra el autoensamblaje de una línea impresa de copolímero de bloque sobre una plantilla preparada mediante fotolitografía. (Foto: Serdar Onses / Universidad de Illinois en Urbana-Champaign)
Los avances logrados por el equipo de John Rogers, Serdar Onses, Lance Williamson y Paul Nealey, ofrecen una solución alternativa al problema.
La combinación de la impresión por chorro de tinta con el autoensamblaje de copolímeros de bloque ha permitido a Rogers y sus colaboradores obtener la muy alta resolución que se busca, al tiempo que se evitan los problemas asociados a las técnicas convencionales.
El nuevo método combina tecnología avanzada de impresión por chorro de tinta, con un enfoque de diseño que pasa por el autoensamblaje de copolímeros de bloque. Estos representan un tipo de material que puede formar espontáneamente estructuras ultrafinas.
El equipo de nueve especialistas de la Universidad de Illinois en Urbana-Champaign, la Universidad de Chicago y la Universidad Hanyang en Seúl, las dos primeras en Estados Unidos y la última en Corea del Sur, pudo incrementar la resolución de fabricación de una intrincada estructura, desde aproximadamente 200 nanómetros hasta unos 15.
La habilidad para fabricar nanoestructuras a partir de polímeros, ADN, proteínas y otros materiales "blandos" tiene el potencial de abrir nuevos campos en la industria electrónica, permitir el desarrollo de nuevos dispositivos para diagnosis médica, y fabricar sensores químicos con algunas ventajas frente a los tradicionales.
El desafío a superar es que muchos de estos materiales son incompatibles con los tipos de técnicas litográficas que se usan tradicionalmente en la industria de los circuitos integrados.
Esta imagen obtenida mediante un microscopio de fuerza atómica muestra el autoensamblaje de una línea impresa de copolímero de bloque sobre una plantilla preparada mediante fotolitografía. (Foto: Serdar Onses / Universidad de Illinois en Urbana-Champaign)
Los avances logrados por el equipo de John Rogers, Serdar Onses, Lance Williamson y Paul Nealey, ofrecen una solución alternativa al problema.
La combinación de la impresión por chorro de tinta con el autoensamblaje de copolímeros de bloque ha permitido a Rogers y sus colaboradores obtener la muy alta resolución que se busca, al tiempo que se evitan los problemas asociados a las técnicas convencionales.
